芯片制造重中之重，但我國發展略顯緩慢

雖然華為會設計芯片，但歸根結底，華為遭遇難題最大的根源在于芯片制造。目前行業當中，芯片制造主要靠兩家企業，一個是臺積電，另一個是三星。我國在這方面雖然也有一定技術，但和臺積電之間的實力相差不少。最重要的是，目前臺積電、三星都在5nm、4nm等技術上有所發展，而我國還停留在14nm，7nm制造都成了一個難題。

造成這種情況最主要的原因就是因為我國無法進口EUV光刻機。因為傳統的DUV光刻機無法制造7nm及以上的芯片產品，想要打造先進工藝，只能選擇EUV光刻機。但因為各種因素的限制，卻導致遲遲買不到相關設備，這就直接導致我國芯片制造進度緩慢。

意料之外，EUV光刻機又被針對

而近日，關于光刻機的新規又一次出爐，這次新規的出現讓讓不少人都有些措手不及，甚至臺積電、三星等企業都沒有料到。根據新規表示，未來ASML所生產的EUV光刻機設備，不僅出貨需要通過許可，甚至還不能進入外企在中國的分廠。這也就是說國外芯片企業在國內的分廠，也無法買到先進的EUV光刻機設備。

要知道，臺積電、三星、SK等全球性質的芯片企業巨頭在國內都有大量的分廠，甚至SK的大部分產能都是在國內完成的，而這一規則的出現無疑直接影響到了這些企業的制造進度和發展狀態。所以說不管是臺積電還是三星，面對這次新規都未能幸免。

這一規則的出現不管是對企業發展還是對我國的企業發展情況都是一個壞處。首先對于企業而言，無法將先進設備購入到國內分廠，就意味著這些分廠在訂單制造方面只能選擇落后的成熟技術。而這也會導致部分企業會選擇性地離開國內建廠，這就會導致建廠成本提升，風險加大。

其次，一旦企業離開國內市場到其他地方發展，這就直接減緩了當地的發展速度，對于當地經濟來說也是一種損失。

自研光刻機迫在眉睫

不難看出，這次新規針對的其實還是EUV光刻機以及我國的芯片發展速度。但越是在這種情況下，光刻機的研發就越是迫在眉睫。雖然我們可能做不到全部零件都實現自主研發生產，但只要實現關鍵零部件去美化，純國產光刻機的制造和生產或許并不是天方夜譚。要知道，目前上海微電子已經在28nm光刻機的生產上有所成績，一些關鍵性技術方面也有突破，只要保證這種狀態，光刻機難題遲早會實現突破。